表面轮廓粗糙度测量系统
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  LI/WIVS型 激光干涉/白光干涉两用表面形貌测量仪
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LI/WIVS型 激光干涉/白光干涉两用表面形貌测量仪
   
文档
   
原理
   
 
主要特点
 
  • 具有接触与非接触两种测量方式,扩展了仪器的适用范围;
  • 接触与非接触测量均具有大量程、高精度的特点,可测量精密与超精密加工的表面,也可以测量一般的工程表面;
  • 测量轮廓数据包含了轮廓坐标尺寸、形状误差、波度及表面粗糙度;
  • 可进行三维测量评定,也可以进行二维测量评定;
  • 具有功能强大的分析软件。
技术指标
接触式测量 激光干涉位移传感器
垂直测量量程 0~5mm
垂直测量分辨率 5nm(全量程)
测针半径 2μm(准配置),10μm,0.5mm,1mm(可根据用户需求配置)
水平测量面积 行程:50mm×50mm
水平测量分辨率 0.2μm(最小采样间距)
非接触式测量:显微镜放大倍数 10× 25× 40×
分辨率:垂直 垂直扫描(VSI):3nm   相移干涉(PSI):1nm
水平(μm) 6.71 2.7 1.68 1.0
视场(mm,CCD1/2") 2×1.5 0.6×0.4 0.4×0.25 0.2×0.1
垂直量程 白光干涉垂直扫描:0~40μm;相移干涉:0~λ/2
立柱行程 250mm
用途
 
  • 车、铣、钻、刨、镗、磨,加工金属表面的形貌测量与评定;
  • 石材、塑料、纸张、木材等非金属表面的形貌测量与评定;
  • 球面、非球面、自由曲面、结构表面的表面形貌测量与评定;
  • 台阶、沟槽、高度测量及工件尺寸的比较测量;
  • MEMS器件、集成电路、膜厚、刻线深度的测量与评定。
构成与配置
 
  • 白光干涉显微镜
  • 激光干涉金刚石触针位移传感器
  • 三维测量驱动系统
  • CCD摄像系统
  • 立柱与花岗石平台
  • 工控机与控制器
  • 单刻线与多刻线样板各一块
注:仪器通常只配置20×或25×显微物镜,若需要其他倍数的显微物镜,在订货时需说明。
应用实例
滚动导轨滚道
标准刻线样板