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LI/WIVS型 激光干涉/白光干涉两用表面形貌测量仪
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| 主要特点 |
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- 具有接触与非接触两种测量方式,扩展了仪器的适用范围;
- 接触与非接触测量均具有大量程、高精度的特点,可测量精密与超精密加工的表面,也可以测量一般的工程表面;
- 测量轮廓数据包含了轮廓坐标尺寸、形状误差、波度及表面粗糙度;
- 可进行三维测量评定,也可以进行二维测量评定;
- 具有功能强大的分析软件。
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| 技术指标 |
| 接触式测量 |
激光干涉位移传感器 |
| 垂直测量量程 |
0~5mm |
| 垂直测量分辨率 |
5nm(全量程) |
| 测针半径 |
2μm(准配置),10μm,0.5mm,1mm(可根据用户需求配置) |
| 水平测量面积 |
行程:50mm×50mm |
| 水平测量分辨率 |
0.2μm(最小采样间距) |
| 非接触式测量:显微镜放大倍数 |
4× |
10× |
25× |
40× |
| 分辨率:垂直 |
垂直扫描(VSI):3nm 相移干涉(PSI):1nm |
| 水平(μm) |
6.71 |
2.7 |
1.68 |
1.0 |
| 视场(mm,CCD1/2") |
2×1.5 |
0.6×0.4 |
0.4×0.25 |
0.2×0.1 |
| 垂直量程 |
白光干涉垂直扫描:0~40μm;相移干涉:0~λ/2 |
| 立柱行程 |
250mm |
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| 用途 |
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- 车、铣、钻、刨、镗、磨,加工金属表面的形貌测量与评定;
- 石材、塑料、纸张、木材等非金属表面的形貌测量与评定;
- 球面、非球面、自由曲面、结构表面的表面形貌测量与评定;
- 台阶、沟槽、高度测量及工件尺寸的比较测量;
- MEMS器件、集成电路、膜厚、刻线深度的测量与评定。
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| 构成与配置 |
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- 白光干涉显微镜
- 激光干涉金刚石触针位移传感器
- 三维测量驱动系统
- CCD摄像系统
- 立柱与花岗石平台
- 工控机与控制器
- 单刻线与多刻线样板各一块
注:仪器通常只配置20×或25×显微物镜,若需要其他倍数的显微物镜,在订货时需说明。 |
| 应用实例 |
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| 滚动导轨滚道 |
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| 标准刻线样板 |
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