表面轮廓粗糙度测量系统
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DI/WIVS型 电感/白光干涉两用表面形貌测量仪
   
文档
   
原理
   
 
主要特点
 
  • 具有接触与非接触两种测量方法,扩展了仪器的使用范围;
  • 可以测量一般的工程表面,也可以测量精密和超精密表面;
  • 可进行三维测量评定,也可以进行二维测量评定;
  • 具有功能强大的分析软件。
技术指标
接触测量 金刚石触针电感式
量程 ±3μm ±10μm ±30μm ±100μm ±300μm
分辨率 10nm 20nm 30nm 100nm 300nm
测针半径 2μm(标准配置),1μm,0.5mm,1mm(可根据用户需求配置)
水平测量面积 行程:50mm×50mm
水平测量分辨率 0.2μm(最小采样间距)
白光干涉测量 垂直分辨率 垂直扫描(VSI):3nm;相移干涉(PSI):1nm
垂直量程 白光垂直扫描:0~40μm;相移干涉:0~λ/2
显微镜放大倍数 10× 25× 40×
数值孔径 0.1 0.25 0.4 0.65
水平分辨率(μm) 6.71 2.7 1.7 1.03
视场(mm)(CCD 1/2") 2×1.5 0.6×0.4 0.4×0.25 0.2×0.1
用途
 
    (1)接触测量
  • 车、铣、钻、刨、镗、磨,加工金属表面粗糙度测量与评定;
  • 石材、塑料、纸张非金属表面粗糙度测量与评定;
  • 工件尺寸的比较测量。
  • (2)非接触测量
  • 具有一定反射率的金属和非金属材料工件的表面形貌测量与评定;
  • MEMS器件、集成电路、膜厚、刻线深度的测量与评定。
构成与配置
 
  • 白光干涉显微镜
  • 电感金刚石触针位移传感器
  • 三维驱动系统CCD摄像系统
  • 立柱与花岗石平台
  • 工控机与控制箱
  • 单刻线与多刻线样板各一块
注:仪器通常只配置25×显微物镜,若需要其他倍数的显微物镜,在订货时需说明。
应用实例
碳纳米管夹持件
MEMS
标准刻线样板